退火炉是一种在半导体器件制造中使用的工艺设备，主要用于加热多个半导体晶片以影响其电性能。
退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中，例如氧化，或者可以自己处理，退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。

退火炉是节能型周期式作业炉，超节能结构，采用纤维结构，节电60%。

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退火炉的主要作用包括：
软化处理：在金属材料的加工和制造过程中，由于机械加工、冷加工等因素，材料内部会产生应力集中和变形，导致材料的硬度增加。通过退火炉的加热和冷却处理，可以使材料内部的晶界重新排列，消除应力和变形，使材料恢复到初始状态，从而达到软化处理的效果。
提高金属材料的塑性和韧性：退火炉还可以通过改变金属材料的晶界结构和晶粒大小，提高材料的塑性和韧性。在退火炉中，金属材料会在高温下保持一段时间，使晶界内的原子有足够的时间进行扩散和重排，形成较为稳定的晶界结构。晶界结构的改变可以使材料的塑性和韧性得到提高，从而增加材料的可加工性和抗变形能力。
消除铸造、锻压、轧制和焊接过程中所造成的各种组织缺陷以及残余应力，防止工件变形、开裂。